SC1 清洗时刻是去除晶圆名义羞耻最常见、资本较低、着力相比高的一种清洗时势。SC1 清洗时刻不错同期去除有机物、一些金属离子以及一些名义的颗粒。 SC1 去除有机物的旨趣是通过双氧水的氧化性和 NH4OH 的融解作用， 使有机物羞耻变成水溶 性的化合物，然后跟着溶液排出。SC1 溶液由于具有氧化性和络合性， 能氧化一些金属离子， 使这些金属离子变成高价离子， 然后进一步和碱发生作用，生成可溶性的络合物 跟着溶液一都排出。然而有一些金属被氧化青年 成的氧化物的解放能较高，容易附着在晶圆名义的氧化膜（因为 SC1 溶液具有一定的氧化性开心色播，会在晶圆名义酿成氧化膜）上开心色播，从而进犯易被去除，比如 Al 和 Fe 等金属。 在去除金属离子的时辰，晶圆名义的金属吸嘉赞脱附的速率最终会达到一个均衡。因此，在先进的制程工艺历程中，对金属离子 要求高的工艺，清洗液都是一次性使用的，使用完就胜利排走，而不会二次使用。其看法即是降 低清洗液中的金属含量，以尽可能洗掉晶圆名义 的金属。 SC1 清洗时刻也不错有用去辞退义颗粒羞耻，主要的机理是电性的撤销作用。在此历程中，不错搭载超声、兆声清洗，得到更好的清洗成果。SC1 清洗时刻会对晶圆的名义鄙俚度产生明 显的影响。为了裁汰 SC1 清洗时刻对晶圆名义粗 糙度的影响， 需要调配出合适的清洗液组分比例。同期，选定低名义张力的清洗液，可使颗粒去除率结识，保管较高的去除着力，也不错裁汰对晶圆名义鄙俚度的影响。在 SC1 清洗液中添加界面活性剂，可裁汰清洗液的名义张力。另外，在 SC1 清洗液中加入螯合剂，可使清洗液中的金属不绝酿成螯 合物，有益于阻难金属的名义附着。 SC2 清洗时刻亦然一种资本低何况具有邃密去除羞耻智商的湿法清洗时刻。SC2 具有极强的络合性，不错和氧化当年的金属作用生成盐，随清洗液冲洗而被去除。被氧化的金属离子与氯离子作用 生成的可溶性络合物，也会随清洗液冲洗而被去除。不错说，在不影响晶圆的要求下，SC1 清洗时刻和 SC2 清洗时刻相得益彰。清洗液中的金属附着 舒坦在碱性清洗液中 （也即是 SC1 清洗液） 易发生，在酸性溶液中（SC2 清洗液）不易发生，并具有较强的去除晶圆名义金属的智商。但经 SC1 清洗后虽能去除 Cu 等金属，而晶圆名义酿成的当然氧化膜的一些金属附着问题还未处治，而又不稳当用 SC2 清洗时刻。av下载